納米技術(shù)對(duì)印刷和印刷油墨的未來正在變得越來越重要,這不僅僅是在歐洲,而是會(huì)在世界的各個(gè)角落都掀起一場(chǎng)科學(xué)技術(shù)的革命。
如果印刷行業(yè)想要將進(jìn)一步擴(kuò)大市場(chǎng),將觸角伸向電子等新興領(lǐng)域,就必須要學(xué)會(huì)在油墨中使用納米級(jí)顆粒和材料。
納米技術(shù)對(duì)人們來說并不陌生,它為很多新產(chǎn)品提供了生產(chǎn)基礎(chǔ),而到2015年,納米產(chǎn)品的銷售額有望達(dá)到數(shù)萬億美元。
印刷也許也能從這個(gè)日益增長(zhǎng)的市場(chǎng)上分得一杯羹,因?yàn)橛∷⒌膽?yīng)用成本較低,而且能在各種承印物上使用含有納米級(jí)成分的油墨和涂料。
目前,很多材料都可以用來生產(chǎn)納米成分,例如碳、銀、鐵、二氧化鈦、氧化鋁、氧化鈰、氧化鋅、二氧化硅、二氧化硅和納米粘土等,盡管它們目前還沒有被全部應(yīng)用在油墨和涂料配方中,但將來的發(fā)展?jié)摿Σ蝗莺鲆暋?nbsp;
此外,納米技術(shù)要想在印刷和其他領(lǐng)域得到廣泛應(yīng)用,仍需迎接很多艱巨挑戰(zhàn),其中最難的就是緩解人們對(duì)健康和安全性的擔(dān)憂,特別是在政策法規(guī)相對(duì)比較嚴(yán)格的歐洲。
英國(guó)勞動(dòng)衛(wèi)生研究所高級(jí)顧問史蒂夫·漢金(SteveHankin)表示:'市場(chǎng)上關(guān)于納米材料的安全信息并不完整,在毒理學(xué)、物化特性和曝光數(shù)據(jù)等方面存在巨大的知識(shí)空白,這使得人們?cè)趯?duì)納米材料進(jìn)行風(fēng)險(xiǎn)評(píng)估和風(fēng)險(xiǎn)管理時(shí)遇到很大困難。
因此,歐洲的很多公司都要求自己的供應(yīng)商說明產(chǎn)品中的納米成分,特別是包裝產(chǎn)品。
除了安全性以外,另一個(gè)令人頭疼的問題就是納米材料研究和開發(fā)成本的提高。這不但需要高水平的研發(fā)人員,而且還要使用昂貴的設(shè)備。為了更上技術(shù)創(chuàng)新的步伐,小型企業(yè)更需要投入大量資金。
英國(guó)一家正在為印刷電子開發(fā)納米油墨的小公司的經(jīng)理保羅表示,納米技術(shù)已經(jīng)從滿足單一要求的材料過渡到了能滿足多種要求的復(fù)雜解決方案。
嚴(yán)格的健康安全要求以及不斷增加的研發(fā)成本使納米技術(shù)成為了一種奢侈品,遠(yuǎn)遠(yuǎn)超過了一些油墨制造商所能承受的極限。
即便是油墨市場(chǎng)上的一些大型企業(yè),也無力支付成立一個(gè)內(nèi)部研發(fā)團(tuán)隊(duì)所需要的費(fèi)用。
除了專門研究納米技術(shù)的企業(yè)以外,歐洲的一些大學(xué)和研究機(jī)構(gòu)也對(duì)納米技術(shù)十分感興趣,并通過制造油墨或?yàn)橛湍a(chǎn)品提供納米成分而滲透到油墨市場(chǎng)中。
多年來,油墨制造商以及都在用銑削加工的方法來生產(chǎn)納米顏料顆粒,以改善油墨配方的顏色質(zhì)量和性能。
在傳統(tǒng)涂料中使用納米技術(shù)能使承印物具有防刮擦的特性。含有納米顆粒的油墨可以被用在大多數(shù)印刷過程中,特別是在印刷電子的生產(chǎn)過程中。
目前,納米材料可以被印刷在各種承印材料上,用于生產(chǎn)RFID標(biāo)簽、熒光顯示器、塑性電池、傳感器和太陽能電池等。
在印刷領(lǐng)域中,對(duì)納米技術(shù)使用最多的就是噴墨油墨,因?yàn)樗枰谂浞街刑砑有☆w粒,特備是對(duì)染料和顏料型油墨而言。
噴墨技術(shù)的發(fā)展與納米材料相輔相成。隨著噴墨印刷技術(shù)的成熟,納米材料也取得了令人振奮的進(jìn)步。
比如在噴墨印刷中所用的納微米材料目前也可以用在營(yíng)造光致變色或電致變色油墨、抗菌劑、阻燃劑、導(dǎo)電石墨和金屬、磁性材料、酶和其他生物材料的生產(chǎn)中。
傳統(tǒng)和噴墨油墨中的納米材料多被用于安全、品牌保護(hù)和防偽等領(lǐng)域,這也是納米技術(shù)在印刷行業(yè)中的最大市場(chǎng)之一。
在當(dāng)前的市場(chǎng)條件下,印刷納米技術(shù)供應(yīng)商和開發(fā)商應(yīng)該密切關(guān)注歐洲和其他國(guó)家的監(jiān)管機(jī)構(gòu),并了解這項(xiàng)技術(shù)的整體發(fā)展水平,從而找到最佳的發(fā)展方向。
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